2011年8月 月例講演会報告

「最新の米国ビジネスモデル ～ 特許訴訟」

講師 ： 遠藤正一氏 （Senior Director, Client Relations, RPX Corporation）

日時 ： 2011年8月31日（水）

略歴 ：

上智大学卒業後、東芝で配電自動化システム(今でいうSmart Grid)の開発に従事。その後渡米してボストンの人工知能ソフトウェアメーカーにて日本アジアマーケットの事業開発を担当。2001年からシリコンバレーにて特許ライセンスビジネスに従事。現在は、Patent Risk Managementサービスを提供するRPX Corporationにて、アジアマーケット担当のSenior Directorを務める。

講演趣旨 ：

特許訴訟はこれまで、侵害行為からの法的救済の一つの手段でした。しかし、現在では特許が市場で流通し、購入した特許を使って事業会社を訴える特許訴訟が新たなビジネスモデルとなっています。米国では既に数千億円規模の市場が確立され、日本企業を含めたあらゆる事業会社が特許訴訟の被告となる脅威に直面しています。米国で事業を行う全ての企業は、特許市場の現状とそこに潜む問題点を深く理解すると同時に、特許訴訟リスクに備えることが求められています。

• NPE特許訴訟とは？

• 訴訟のターゲットは誰？

• どのくらいの費用がかかる？

• ケーススタディ

• NPEのプロファイル

• 特許市場の状況、トレンド

• 今後予想される脅威

• リスクマネージメン

遠藤氏のプレゼンはここをご覧ください。